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一种降低重稀土镀膜旁落率的方法

发布时间:2025-04-15    |  【  大    中    小  】  |  【 打印 】 【 关闭 】
专利类型发明专利
申请类型企业
申请方名称中科三环(赣州)新材料有限公司 , 张未龙 , 李国徽 , 邹天平 , 向春涛 , 沈炯 , 江京京
发明人暂无
申请号CN202310682361.8
公开号CN116397209B
国际申请暂无
申请日2023-06-09 00:00:00
主分类号C23C14/54
代理机构暂无
代理人暂无
公开日2023-09-22 00:00:00
优先权暂无
进入国家日暂无
国际公布日暂无
国际申请日暂无
地址341100 江西省赣州市赣县区赣州高新技术产业开发区火炬大道1号科技企业孵化器326室
检索词暂无

1.一种降低重稀土镀膜旁落率的方法,其特征在于:包括以下步骤:S1:将钕铁硼毛坯加工成黑片状态,即将毛坯加工成一定规格后,清洗其表面;S2:将若干块料板铺满PVD通过式料盘,再将黑片铺设在料板上,放入真空镀膜机内;S3:在将真空镀膜机内部空气抽出至低压状态后,启动真空镀膜机的旋转靶,将重稀土元素沉积到料板上的钕铁硼材料上;S4:通过原子沉积分布数据的收集统计,统计具体厚度梯度分布,将料板进行换位并重复镀膜数次,让原子沉积少的黑片多次沉积,从而让每片达到正常产品需要的厚度或增重;所述钕铁硼材料位于料板上,位于料盘中部上方的钕铁硼材料处于恒定区,位于料盘外侧上方的钕铁硼材料处于非恒定区;所述旋转靶扩散源为含有重稀土元素铽Tb的扩散源,旋转靶溅出的扩散源70%落入恒定区,其余的15%-20%落入非恒定区;通过料板的排列组合结构,使得非恒定区下方的料板进行换位,将位于非恒定区的黑片转移到恒定区,确保黑片沉淀的重稀土元素均匀;所述S4包括:通过原子沉积分布数据的收集统计,统计具体厚度梯度分布,进行每块料板的换位,并进行使得料板上的黑片进行换位后往复镀膜,以及更换不同黑片进行镀膜,让料板上方原子沉积少的黑片多次沉积,达到要求的厚度或增重,以便将位于非恒定区上的黑片沉淀的更加均匀。

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