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稀土专利
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蚀刻组合物、通过使用其蚀刻含金属膜的方法以及通过使用其制造半导体器件的方法

发布时间:2025-04-14    |  【  大    中    小  】  |  【 打印 】 【 关闭 】
专利类型发明专利
申请类型暂无
申请方名称Choi Byoungki , Oh Jungmin , Kim Daihyun , Ham Cheol , Hwang Kyuyoung , Park Mihyun , Lee Hyosan , Kang Byungjoon , Kim Hwang Suk
发明人暂无
申请号EP23165831
公开号EP4257659A2
国际申请暂无
申请日2023-03-31 00:00:00
主分类号C09K13/00
代理机构Elkington And Fife Llp
代理人Elkington And Fife Llp
公开日2023-10-11 00:00:00
优先权KR1020220168160;KR1020230042150;KR1020220041912
进入国家日暂无
国际公布日暂无
国际申请日暂无
地址129, Samsung-ro Yeongtong-gu Suwon-si, Gyeonggi-do 16677 KR
检索词暂无

An etching composition comprising : an oxidizing agent; an ammonium salt; an aqueous solvent; and an accelerator, wherein the ammonium salt includes an ammonium cation and an organic anion, and the accelerator includes a compound represented by Formula 1-1, a compound represented by Formula 1-2, a compound represented by Formula 1-3, a compound represented by Formula 1-4, a compound represented by Formula 1-5, a compound represented by Formula 1-6, or any combination thereof, wherein, in Formulae 1-1 to 1-6, Ar1 is a C3-C20 unsaturated cyclic group, X1 and X3 are each independently C or N, X2 in Formulae 1-1, 1-2 and 1-6 is C(R2), N(R2), N(H), *-N=*', *=N-*', O or S, X2 in Formula 1-3 is C(R2) or N(R2), X2 in Formulae 1-4 and 1-5 is N(H), *-N=*', *=N-*', O or S, X1 and X2 are linked to each other via a single bond or a double bond, X2 and X3 are linked to each other via a single bond or a double bond, Y1 is C(Z3)(Z4), N(Z3), C(=O) or C(=S), T1 is *-OH, *-SH, or *-NH2, T1a is O or S, R2 is *-O(Z5), *-S(Z5), or *-N(Z5)(Z6), Z1, Z3 to Z6, Z11, and Z12 are each independently, hydrogen, deuterium, *-F, *-Cl, *-Br, *-I, *-OH, *-SH, *-NH2, *-C(=O)H, *-C(=S)H, *-C(=O)-OH, *-C(=S)-OH, *-C(=O)-SH, *-C(=S)-SH, *-C(=O)-(NH2), *-C(=S)-(NH2), *-NH-C(=O)-(NH2), *-NH-C(=S)-(NH2), *-C(OH)-C(=O)-OH, *-C(SH)-C(=O)-OH, *-C(OH)-C(=S)-OH, *-C(OH)-C(=O)-SH, *-C(SH)-C(=S)-OH, *-C(SH)-C(=O)-SH, *-C(OH)-C(=S)-SH, *-C(SH)-C(=S)-SH, *-C(=O)-C(=O)-OH, *-C(=S)-C(=O)-OH, *-C(=O)-C(=S)-OH, *-C(=O)-C(=O)-SH, *-C(=S)-C(=S)-OH, *-C(=S)-C(=O)-SH, *-C(=O)-C(=S)-SH, *-C(=S)-C(=S)-SH, or *-C(=O)-ONH4; or a C1-C20 alkyl group, a C2-C20 alkenyl group, a C1-C20 alkoxy group, a C6-C20 aryl group, or a C2-C20 heteroaryl group, unsubstituted or substituted with deuterium, *-F, *-Cl, *-Br, *-I, *-OH, *-SH, *-NH2, *-C(=O)H, *-C(=S)H, *-C(=O)-OH, *-C(=S)-OH, *-C(=O)-SH, *-C(=S)-SH, *-C(=O)-(NH2), *-C(=S)-(NH2), *-NH-C(=O)-(NH2), *-NH-C(=S)-(NH2), *-C(OH)-C(=O)-OH, *-C(SH)-C(=O)-OH, *-C(OH)-C(=S)-OH, *-C(OH)-C(=O)-SH, *-C(SH)-C(=S)-OH, *-C(SH)-C(=O)-SH, *-C(OH)-C(=S)-SH, *-C(SH)-C(=S)-SH, *-C(=O)-C(=O)-OH, *-C(=S)-C(=O)-OH, *-C(=O)-C(=S)-OH, *-C(=O)-C(=O)-SH, *-C(=S)-C(=S)-OH, *-C(=S)-C(=O)-SH, *-C(=O)-C(=S)-SH, *-C(=S)-C(=S)-SH, *-C(=O)-ONH4, or any combination thereof, a1 is an integer from 0 to 5, A1 is, hydrogen or deuterium; or a C1-C20 alkyl group, a C2-C20 alkenyl group, a C1-C20 alkoxy group, a C6-C20 aryl group, or a C2-C20 heteroaryl group, unsubstituted or substituted with deuterium, *-F, *-Cl, *-Br, *-I, a C1-C20 alkyl group, a C1-C20 alkoxy group, or any combination thereof, and * and *' each indicate a binding site to a neighboring atom.

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