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磁泡材料

发布时间:2025-04-10    |  【  大    中    小  】  |  【 打印 】 【 关闭 】

磁泡材料主要有单晶石榴石外延薄膜和非晶态合金薄膜两种类型,目前使用的是单晶石榴石外延膜,其基片是非磁性的GGG(Gd3Ga5O12:钆镓石榴石)。


最早曾用正铁氧体(REFe3:RE为Y或La~Lu的稀土元素,亚铁磁体)做磁泡材料,但由于磁矩很低,以致泡径大到100μm,无法达到高密度。另外,正铁氧体是弱铁磁性材料,因此,成分可调范围小,难以生长无缺陷的大单晶。更不利的是缺乏合适的衬底,制作正铁氧体外延膜尤为困难。另外,六角晶系铁氧体虽具有单轴各向异性,但由于畴壁迁移率很低,因而数据传输速率极低,所以不能采用。


直到1970年初,博贝克等人发现了石榴石(M3Fe5O12)具有感生单轴各向异性,这为磁泡技术的发展开辟了广阔的前景。几十年来,对石榴石磁泡材料进行了大量的试验和研究,其中包括探讨小泡径材料,以提高存储密度;提高畴壁迁移率,以便提高数据传输速率;同时改善温度系数以满足应用的要求。目前常用的材料有:(EuEr)3(FeGa)5O12,(EuY)3(FeGa)5O12,(SmY)3(FeGa)5O12,(YSmLuCa)3(FeGe)5O12等。通用的磁泡外延膜材料有四个系列,而最通用的是 Ca-Ge系列,调整组分元素和元素摩尔比,可以获得不同泡径和不同性能的材料。


1973年发现了非晶态磁泡材料,泡径在0.08~5μm之间,畴壁迁移率为61.5~376.9cm·m/(s·A)。这种材料适合制造高密度,高操作速度的磁泡存贮器。因为是非晶态,所以制作薄膜时无需单晶基片,并省去了单晶生长、切割、研磨、抛光等大量繁琐的工艺,同时降低了成本。然而非晶态磁泡材料有温度性能差的明显缺点,所以很难用此种材料制作磁泡器件。

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GGG基片制备

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磁泡材料的构造和特性

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